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Tecnologia
- 2009
Testo
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La tecnica
messa a punto all’Enea. Diventerà impossibile falsare 28.03.09 - Si chiama MET-EGERIA (Extreme ultraviolet light Generation for Experimental Research and Industrial Applications): è l’apparato di litografia di ultima generazione, il primo in Italia ad essere basato su una sorgente di radiazioni nell’estremo ultravioletto e raggi X che permette di riprodurre su plastiche o su film/cristalli fotosensibili qualsiasi disegno che venga inserito in una matrice. Si tratta di uno strumento ad altissimo livello tecnologico adatto alla produzione di microchip con risoluzione più elevata di quella raggiungibile tramite la litografia ottica. L’apparato, interamente progettato e realizzato presso l’ENEA, da un gruppo di ricercatori guidati da Paolo di Lazzaro, ha dimostrato un’eccezionale versatilità di applicazione nel campo delle nanotecnologie, in particolare microelettronica, nanobiologia, fotonica ed anticontraffazione. LA LITOGRAFIA NELL’ESTREMO ultravioletto ha già dimostrato di poter migliorare in modo sensibile le prestazioni degli attuali sistemi litografici utilizzati per realizzare microprocessori per elettronica di consumo (computer, telefoni cellulari, macchine fotografiche digitali, sistemi di navigazione) ...
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